光学元件进入抛光工序，距离成品仅差临门一脚。然而划痕、凹坑、亚表面损伤，以及抛光液沉降、清洗困难等固有难题，往往让这道工艺成为决定良率高低的分水岭。

由美国可脉（QMAXIS）推出的高纯度氧化铈抛光液CeriumPrep，优化从原料端开始，采用高纯度氧化铈原料，粒径精细且分布集中，有效抑制沉降、结块现象。用户按需稀释后，不论是实验室小批量工艺验证，还是产线长时间连续运转，都能够维持良好的工作状态，设备管路与抛光布的清洁频次也得以降低。

实测表明，CeriumPrep 在硼硅酸盐玻璃、熔融石英、微晶玻璃等主流光学材料上均具有出色表现。该产品抛光作用柔和，可显著降低由硬质粗大颗粒引发的划痕与凹坑，工件表面光洁度得以提升。尤为关键的是，产品能够较为彻底地去除亚表面损伤层，而亚表面损伤的控制水平，将直接决定镜头、窗口片、棱镜等光学元件的透光率与抗激光损伤阈值。

量产场景中，悬浮体系稳定性至关重要。CeriumPrep 依托专用配方，磨料颗粒无论静置还是循环工况下均不易分层沉降，批次一致性好，适合自动化产线连续作业。可降低换液频次与清理工时，延长设备有效工作时间。

此外，CeriumPrep 可与沥青垫及各类常用抛光布配合使用，兼容数控、单轴抛光机。抛光残留物更易清洗，能够有效管控返工率。无论是研发试制还是批量量产场景，QMAXIS（可脉）均提供两大系列氧化铈抛光液，分别侧重加工精度与抛光效率，从容应对不同工况需求。面对抛光环节的这些“隐形对手”—— 划痕、凹坑、亚表面损伤以及抛光液易沉降等难题，CeriumPrep 都能悉数破解。

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