在熔融石英、光学玻璃、零膨胀微晶玻璃等精密光学元件制造中，抛光工序直接决定工件透光性能与使用寿命。划痕、凹坑、亚表面损伤、沉降和难清洗等一系列问题，长期制约光学产品品质提升。

美国可脉 QMAXIS 推出 ULTRAPOLISH、NANOPOLISH 两大系列高纯度氧化铈抛光液，专为各类光学材料超精密抛光打造，为行业提供稳定可靠的精抛光解决方案。

ULTRAPOLISH、NANOPOLISH 两大系列抛光液均采用市场上难得一见的高纯度氧化铈原料精制而成，适用于硼硅酸盐玻璃、熔融石英、微晶玻璃等绝大多数主流光学材料。通过改良生产工艺，优化颗粒分散体系，悬浮液内氧化铈粒径细小、分布集中，从根源上减少沉淀结块，抛光后工件与抛光垫清洁难度大幅降低。产品采用高浓缩浆料配方，用户可根据现场工艺需求自主稀释，无论是小批量试样测试，还是自动化量产，浆料都展现了极其灵活的一面。

实测数据印证，对比市面上其他氧化铈抛光液，QMAXIS 氧化铈抛光液综合抛光性能远超行业标准，抛光过程温和可控，可规避硬质颗粒造成的划痕、凹坑，显著优化工件表面光洁度。其核心优势在于有效消除亚表面损伤，从底层保障光学元件的透光率、抗激光损伤阈值，适合镜头、光学窗口、高精度棱镜等高端零部件抛光。

    稳定的悬浮体系是量产抛光的核心需求。该抛光液依靠专属化学配方，磨料颗粒可长期保持均匀悬浮状态，静置不易分层沉淀。全程抛光效果统一，每一批次工件表面质量可重复，完美匹配自动化流水线连续作业，减少频繁更换抛光液、清理设备的停工损耗，切实提升工厂生产效率。

核心亮点  

·        用于光学材料“超精抛”的理想磨料

·        粒径细小且分布范围窄，可实现优异的表面质量、材料去除率与重复性

·        性能优于半导体浅沟槽隔离化学机械抛光（STI CMP）工艺的行业标准

·        优异的颗粒悬浮液体系可保障将磨料均匀输送至抛光工件，同时避免磨料在管路与设备内沉淀

·        易于从工件与设备上清洗去除，减少返工，提高产量

·        可与沥青抛光垫及其他抛光垫搭配使用，可用于数控抛光设备及主轴抛光机

从实验室试样研发到规模化量产抛光，美国 QMAXIS 两大系列氧化铈抛光液兼顾抛光精度、工艺灵活性与量产稳定性，为光学玻璃超精密抛光提供一站式解决方案，成为精密光学制造企业提质增效的可靠选择。

如果您想了解更多关于氧化铈抛光液的信息，欢迎致电186-0049-7749。

本作品的著作权及信息网络传播权归链能金相实验设备南京有限公司所有，严禁转载、抄袭！违者必究！