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徕卡低真空镀膜仪-Leica EM ACE200性能 | ||
• 完全重现结果:运行自动化的进程,并协助参数设置 • 小巧紧凑:设计紧凑,占地面积小节省了实验室空间 • 容易清洗:具备可拆卸门、卷帘、内部屏蔽、光源、 载物台 • 操作简便:直观的触摸屏和一键式操作 | ||
徕卡低真空镀膜仪-Leica EM ACE200技术参数 |
可任选离子溅射模式、碳丝蒸发镀碳模式,或者双模式, 可选辉光放电(用于网格表面亲水化) | |
特殊设计脉冲式碳丝蒸发方式,可准确控制碳膜厚度 | |
可选石英膜厚检测器,准确控制镀膜厚度,精度达0.1nm | |
全自动程序控制,自动完成抽真空,镀膜,放气等过程 | |
触摸屏控制,简单方便 | |
真空度≤7x10-3mbar | |
溅射电流:0-150mA可调 | |
方形样品仓创新设计,样品仓尺寸:140mm(宽)x145mm(深)x150mm(高) | |
工作距离调节范围:30-100mm |