众所周知金相制样一般包括取样、镶嵌、研磨抛光、浸蚀观察等4道工序。但是具体操作如何?今天小编就想来和大家聊一聊金相试样制备的流程,如下:
一、取样
试样的选取应根据研究的目的,取其具有代表性的部位。待确定好部位,用金相切割机就可以把试样截下,试样的尺寸通常采用直径12~20mm,高12~15mm的圆柱体或边长12~15mm的方形试样。切取过程中不宜使试样的温度过于升高,以免引起金属组织的变化,影响分析结果。
二、镶嵌
如试样尺寸太小或不规则时,直接用手来磨制会比较困难,这个时候我我们可以选择使用金相镶嵌机把试样镶嵌在胶木粉中。
三、研磨、抛光
粗磨:粗磨的目的是为了获得一个平整的表面。通常在砂轮机上进行,但在磨制时应注意:试样对砂轮的压力不宜过大,否则会在试样表面形成很深的磨痕,增加精磨和抛光的难度;要随时(用水)冷却试样,以免受热引起组织变化;试样边缘的棱角若无保存表面,可先行磨圆(倒角),以免在细磨及抛光时撕破砂纸或抛光布,甚至造成试样从金相抛光机上飞出伤人。
精磨:经粗磨后试样表面虽较平整,但仍还存在有较深的磨痕。精磨的目的就是为了消除这些磨痕,以得到平整光滑的磨面,为下一步的抛光做好准备。精磨是在一套粗细程度不同的金相砂纸上,由粗到细原则进行。精磨时将砂纸贴在带有旋转圆盘的磨抛机上,将试样磨面朝下,通过磨抛机固定方式均匀用力向下压在砂纸或抛光布上。每更换更精细砂纸时,须将试样的研磨方向调转90°。
抛光:细磨的试样还需进行抛光。抛光的目的是去除细磨时遗留下来的细微磨痕而获得光亮的镜面。试样的抛光是在专用的抛光机上进行的,磨盘转速一般10-700r/min(可调)。抛光时在抛光盘盘面上铺有丝绒等织物,并不断加入抛光剂。抛光时应使试样磨面均匀地压在旋转的抛光盘上,并沿盘的边缘到中心不断作径向往复运动,直到获得光亮的镜面。
四、浸蚀观察
将已抛光好的试样用水冲洗干净或用酒精擦掉表残留的脏物,然后将试样磨面浸入腐蚀剂中,或用竹夹子或木夹夹住棉花球沾取腐蚀剂在试样磨面上擦拭,抛光的磨面即逐渐失去光泽;待试样腐蚀合适后马上用水和酒精冲洗干净,并用吹风机吹干试样磨面,即可放在显微镜下观察和分析研究。高倍观察时腐蚀稍浅一些,而低倍观察则应腐蚀较深一些。
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